磁控溅射 PVD 设备为超高真空多功能精密镀膜设备，极限真空可达 1×10⁻⁶ Pa。可在金属、玻璃、陶瓷、高分子等各类基材表面沉积高精度功能薄膜，可制备光学膜、导电膜、绝缘膜、耐磨防腐膜、防护功能涂层等，膜层致密性高、附着力强、稳定性优异，适合各类高端精密零部件规模化量产。

设备在超高真空环境下，通过正交电磁场增强等离子体电离，利用氩离子轰击靶材实现高速粒子溅射；配合氧、氮气反应沉积氧化物、氮化物等各类功能薄膜。整机搭载多制式电源，分别适配不同靶材与涂层需求：

◆  DC 电源 —— 适配金属靶材高速沉积

◆  RF 电源 —— 适配介质（绝缘）靶材

◆  HiPIMS 电源 —— 适配高端致密涂层制备

结合在线精密监控系统，精准控制膜厚、折射率与膜层性能，稳定实现多层薄膜精密沉积。

◆  真空系统

全不锈钢密封腔体，多级真空机组，极限真空 1×10⁻⁶ Pa，提供高洁净镀膜环境，有效降低膜层杂质缺陷。

◆  溅射靶系统

多组水冷靶位，适配各类金属、介质、陶瓷靶材，放电稳定、利用率高，可有效避免颗粒、打火等工艺问题。

◆  基板系统

行星旋转结构保证膜厚均匀，支持 80℃ 低温镀膜，兼容金属、玻璃、晶体、塑胶、柔性材料等全品类基材。

◆  气路系统

高精度闭环气体控制，稳定膜层成分与性能，防止靶材中毒，保障工艺一致性与重复性。

◆  在线监控系统

实时监测并动态校准膜层参数，满足高精度薄膜设计要求。

◆  电控辅助系统

可选离子源提升膜层致密性；全自动 PLC 程序控制，工艺可存储复用，适配稳定量产。

◆  性能稳定优异：膜层致密无孔隙、低应力、参数一致性好，光学、电学、机械性能表现优异。

◆  可靠性强：膜基结合力佳，耐磨、防腐、抗老化，可通过温循、水煮、摩擦、盐雾等严苛测试。

◆  适配范围广：兼容各类硬质、柔性基材，支持常温、低温工艺，适配多行业产品迭代。

◆  多领域通用：可同时满足光学镀膜、工业功能涂层、新能源功能性薄膜生产需求，通用性极强。

◆  量产能力强：自动化程度高，工艺复刻性好、良品率稳定，适合高端精密薄膜批量生产。